本发明的一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置，包括石墨基座和线圈，所述石墨基座为圆柱形且线圈设置在石墨基座的下方，所述石墨基座上表面设置有向下凹陷的圆环形凹槽。本发明的有益效果是：圆环形凹槽改变了传统石墨基座单一的加热方式，根据电磁感应加热的特性，既有直接的热传导，又有辐射加热，提高了晶片温度分布的均匀性。对于大尺寸的晶片来说，不需要增加基座的高度，结构简单，加热效率高，更加适合在大尺寸的MOCVD反应室中使用。