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发明专利
一种形貌可控的三维纳米阵列形成过程的制备方法
发布日期：2019-12-05 来源：1938.0 点击：
本发明公开了一种形貌可控的三维纳米阵列形成过程的制备方法，本制备方法以嵌段共聚物聚苯乙烯‑b‑聚4乙烯基吡啶(PS‑b‑P4VP)为模板，三氯甲烷为溶剂，通过溶剂退火的方法合成三维纳米阵列结构，本发明方法极为简单、易于调控、制备出中间形成过程的结构，发现了三维纳米阵列的演变过程，在多孔碳材料的制备，光子晶体，能量储存/转换装置等方面具有广阔的应用前景。
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