本发明公开了一种用于磁盘基片抛光的抛光液制备方法，其特征在于，该方法具有以下工艺步骤：在反应器中，按如下组成质量百分浓度加入，二甲基硅油：70~78%，羟基亚乙基二磷酸：2.0~5.0%，甘油：2.0~5.0%，硬脂酸：0.5~2.0%，AlN‑‑Al2O3‑CeO2‑MgO复合物：12~20%，各组分之和为百分之百，以200转/分的转速，搅拌反应2~4 h，即得磁盘基片抛光的抛光液，其中磨料的粒径在20~100nm之间。该制备工艺简单，条件易于控制，生产成本低，易于工业化生产。抛光过程，具有液体抛光效果好，光泽度，无划痕，平整度高，用量少，防腐蚀，容易洗涤。
