本发明公开了一种静电场辅助多晶硅铸锭的方法。其步骤如下:(1)将两片电极板置于多晶铸锭坩埚上下两侧,并保持平行;(2)电极板外接高压电源,给电极板输出稳定电压;(3)保持电场强度稳定在1V/cm‑100000V/cm范围中某一具体值,进行多晶硅铸锭工艺;(4)铸锭结束,极板断电,即得到性能优异的多晶硅铸锭。本发明可使多晶硅晶粒变大、取向性增强,并且可以将多晶硅中多种带电杂质高效的去除,大幅提高多晶硅质量,操作简单,稳定性好,能够进行批量生产。图1为实施例1、2中电场施加示意图;其中1导线,2石墨电极,3铸锭坩埚,4高压电源。